维基百科

File:Spacer Patterning.JPG

Spacer_Patterning.JPG （393 × 576像素，文件大小：19 KB，MIME类型：image/jpeg）

摘要

描述
English: Spacer patterning:
  • First pattern
  • Deposition of mask material
  • Etching to form sidewall spacers
  • Removal of first pattern
  • Etching using remaining spacers as mask
  • Removal of spacers, leaving final pattern
日期
来源 自己的作品 (原始说明文字： "
Own work
")
Transferred from en.wikipedia to Commons by User:Cepheiden using CommonsHelper.
作者 Guiding light at en.wikipedia
其他版本
此diagram图片可使用矢量图形重新创建为SVG文件。这具有很多好处；更多信息请参见共享资源:待清理媒体。如果存在此图片的SVG格式，请将其上传，然后将此模板替换为{{vector version available|新图片名称}}。


建议您将SVG命名为“Spacer Patterning.svg”，这样在使用Vector version available（或Vva）模板时就不需要填写新图片名称参数。
这个file中的所有图片名上传在JPEG格式，即使它包含非照片数据。该信息可以以PNG或SVG格式更有效或更准确地存储。如果可能，请上传此图像的PNG或SVG版本，没有压缩失真，源自非JPEG源（或去除现存的失真）。完成后，请使用{{Superseded|NewImage.ext}}标记JPEG版本并删除此标记。此标签不应应用于照片或扫描件。如需更多信息，请参阅{{BadJPEG}}。

许可协议

Guiding light at en.wikipedia，本作品著作权人，特此采用以下许可协议发表本作品：
w:zh:知识共享
署名 相同方式共享
本文件采用知识共享署名-相同方式共享3.0 未本地化版本、2.5 通用、2.0 通用和1.0 通用许可协议授权。
署名: Guiding light at en.wikipedia
您可以自由地：
  • 共享 – 复制、发行并传播本作品
  • 修改 – 改编作品
惟须遵守下列条件：
  • 署名 – 您必须对作品进行署名，提供授权条款的链接，并说明是否对原始内容进行了更改。您可以用任何合理的方式来署名，但不得以任何方式表明许可人认可您或您的使用。
  • 相同方式共享 – 如果您再混合、转换或者基于本作品进行创作，您必须以与原先许可协议相同或相兼容的许可协议分发您贡献的作品。
GNU head 已授权您依据自由软件基金会发行的无固定段落及封面封底文字（Invariant Sections, Front-Cover Texts, and Back-Cover Texts）的GNU自由文件许可协议1.2版或任意后续版本的条款，复制、传播和／或修改本文件。该协议的副本请见“GNU Free Documentation License”。
您可以选择您需要的许可协议。

原始上传日志

The original description page was here. All following user names refer to en.wikipedia.
  • 2008-03-08 14:07 Guiding light 393×576× (19013 bytes) Spacer patterning: * First pattern * Deposition of mask material * Etching to form sidewall spacers * Removal of first pattern * Etching using remaining spacers as mask * Removal of spacers, leaving final pattern

说明

添加一行文字以描述该文件所表现的内容

此文件中描述的项目

描绘内容

文件来源 简体中文（已转写）

上传者的原创作品 简体中文（已转写）

文件历史

点击某个日期/时间查看对应时刻的文件。

日期/时间缩⁠略⁠图大小用户备注
当前2011年11月6日 (日) 13:162011年11月6日 (日) 13:16版本的缩略图393 × 576（19 KB）File Upload Bot (Magnus Manske) {{BotMoveToCommons|en.wikipedia|year={{subst:CURRENTYEAR}}|month={{subst:CURRENTMONTHNAME}}|day={{subst:CURRENTDAY}}}} {{Information |Description={{en|Spacer patterning: * First pattern * Deposition of mask material * Etching to form sidewall spacers * R

以下页面使用本文件：

全域文件用途

以下其他wiki使用此文件：

检索自“https://zh.wikipedia.org/wiki/File:Spacer_Patterning.JPG”