File:EVG 120 resist coater-developer at LAAS 0434.jpg

原始檔案 (3,872 × 2,592 像素,檔案大小:4.24 MB,MIME 類型:image/jpeg


摘要

描述
English: EVG 120 fully automated photoresist coater-developer under inactinic light at LAAS-CNRS technological facility in Toulouse, France.
Français : Machine EVG 120 d'enduction et révélation automatisée de résine photosensible sous lumière inactinique à la centrale de technologie du LAAS-CNRS à Toulouse, France.
日期
來源 自己的作品
作者 Guillaume Paumier (user:guillom)
授權許可
(重用此檔案)
Own work, attribution, share-alike: Multi-license with GFDL and Creative Commons CC-BY-SA-3.0
拍攝地點43° 33′ 47.16″ 北, 1° 28′ 39.36″ 東 Kartographer map based on OpenStreetMap.位於此地的本圖片與其他圖片: OpenStreetMapinfo

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檔案來源 Chinese (Taiwan) (已轉換拼寫)

43°33'47.2"N, 1°28'39.4"E

0.066666666666667

18 公釐

4,445,869 位元組

2,592 像素

3,872 像素

image/jpeg

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斷定方法:​SHA-1 中文 (已轉換拼寫)

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目前2007年11月12日 (一) 09:23於 2007年11月12日 (一) 09:23 版本的縮圖3,872 × 2,592(4.24 MB)Guillom==Description== {{Information |Description={{en|EVG 120 fully automated en:photoresist coater-developer under en:inactinic light at fr:LAAS-CNRS technological facility in Toulouse, France.}} {{fr|Machine EVG 120 d'e

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