冷電漿體
冷電漿體（英語：cold plasma）是電離率小於10%的電漿體。其電子溫度遠大於離子溫度，屬於非熱平衡電漿體。用低溫電漿體可以對材料表面進行改性處理。[1]
發生技術
產生低溫電漿體的手段很多，可用紫外輻射、x射線、電磁場、加熱等方法。實驗室和工業產品大都採用電磁場激發電漿體，如直流輝光放電、射頻放電、微波放電和介質阻擋放電(DBD)等。[2]
應用
參考文獻
- ^ 孟月東; 鍾少鋒. 低温等离子体技术应用研究进展. 物理. 2006, 35 (2): 140–146.
- ^ 任兆杏; 丁振峰. 低温等离子体技术. 自然雜誌. 1996, (04).
- ^ 陳杰瑢. 低温等离子体化学及其应用 (PDF). 北京: 科學出版社. 2001 [2021-06-23]. ISBN 7-03-008225-7. （原始內容存檔 (PDF)於2021-06-24）.